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发布时间:2025年1月17日 分类:合作案例 浏览量:37

深圳大学可见光近场升级交付及测试

我司于2024年成功向深圳大学交付了一套三频点的可见/近红外近场光学显微成像系统,该系统搭配了Neapeac原装原子力显微镜、可见光/近红外连续光源以及精密近场耦合光路,可以实现在532nm、785nm和1064nm的纳米分辨近场光学成像功能。

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可见光近场光学成像系统光路原理图

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可见光近场光学成像系统光路实物图


系统简介

该套系统的三个频点光束被扩束准直后经由两个二向色镜汇聚为同一条光路,而后再与原neaspec红外近场光路重合。升级的可见光近场使用的仍然是伪外差干涉光路,参考光经过抖镜的相位调制后与探针散射的近场信号、原子力反射的背景信号一同进入光电探测器。若探针抖动频率为Ω,振镜振动频率为M,对nΩ+M和nΩ+2M的解调信号将会是n阶近场信号的实部和虚部,简单处理即可得到较为纯净的近场强度和相位信息。经过我们的光路设计,三个频点可以实现非常方便的切换工作,且信号调节过程操作便捷。

功能介绍

可见光近场系统在微纳光子学领域有着不可替代的作用。归功于它纳米级的空间分辨能力以及对表面场分布的散射作用,可以实现对二维材料或异质结表面的等离激元、声子激元以及激子激元等形成驻波的直接观测;当然,如谐振腔和纳米缝等场增强模式的观测也是它的应用场景之一,具体应用场景可以参看公众号之前的文章。

升级的可见光系统的总体参数

激光器功率50mW@532nm,785nm100mW@1064nm
激光器功率稳定性优于1%
光源光斑模式TEM00单纵模
探测器转换增益9.2×10^6V/W@532nm,785nm18.4×10^6V/W@1064nm
近场成像分辨率优于50nm
近场成像阶数优于3阶

成像结果展示

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532nm成像展示:硅标样,周期3um,高度20nm(上);微米介质波导(下)

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785nm成像展示:硅标样,周期3um,高度20nm(左);微米介质波导(右)

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1064nm成像展示:微米介质波导

我司长期致力于高端太赫兹设备,近场光学设备的国产化。后续公司也将继续关注相关方向的国际前沿进展,陆续推出相关工作的专业解读,欢迎关注。公司目前拥有太赫兹远场成像,成谱时域系统,太赫兹近场成像、成谱系统,太赫兹光导探针近场系统(微米级分辨率),感兴趣测样的老师同学也欢迎联系我们寄样测试。

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